1.1. ПРИНЦИПИАЛЬНЫЕ СХЕМЫ И КЛАССИФИКАЦИЯ ПЛАЗМЕННЫХ РЕАКТОРНЫХ УСТРОЙСТВ
Известные плазменные технологические процессы осуществляются в плазменных реакторных устройствах различных типов (рис. 1).
Как уже отмечалось, в [1Моссэ А. Л., плазменный реактор Печковский В.В. Применение низкотемпературной плазмы в технологии неорганических веществ. –Мн.: Наука и техника, 1973.] было предложено рассматривать два типа плазменных реакторов: струйные и объемные, основное отличие которых друг от друга заключается в характеристике газодинамического режима плазмы.
В реакторах струйного на подобии нрав и конструкция плазменной потока, генерируемой в плазмотроне, в ведущем сберегаются и в реакторе. Струйные реакторы имеют все шансы быть прямоточными (рис. 1, а) и работающими по схеме встречных потоков (рис. 1,6), при этом навстречу приятель приятелю имеют все шансы сервироваться как потока плазмы и сырья, например и 2 плазменные потока. В последнем случае, как и в случае прямотока, сырье вводится перпендикулярно оси плазменных потоков или же другими методами. Тут идет по стопам обозначить спутно и встречно вихревой методы ввода сырья [8. Смородин А.Н. и др. Изучение плазмохимического реактора для синтеза ацетилена. – В кн.: Появления перенесения в низкотемпературной плазме. Мн.: Урок и техника, 1969.]. Ввод реагентов в любом из данных случаев в зависимости от производительности реактора, облика и фазового состояния начальных компонент и ряда иных технологических моментов имеет возможность реализоваться сквозь одно, 2 или же некоторое количество отверстий, находящихся, как правило, близко от фронтального среза реактора. Этим образом, фронтальная доля реактора дает собой смеситель, т. е. прибор, где сырье вводится и перемешивается с плазменной струей.Реакторные прибора прямоточного на подобии влекут забота простотой схемного и конструктивного заключения, а еще ключевым образом сравнительной простотой систем обеспечивания работы плазмотрона, например как использование в предоставленномданном случае 1-го плазмотрона важно упрощает системы его электронного питания и поджига и в кое-какой степени системы газо- и водоснабжения. В конкретных случаях к превосходству подобный схемы идет по стопам отнести высшую скорость перемещения плазменной потока, позволяющую рассеять частички дисперсного материала до скоростей, важных для воплощения технологического процесса, к примеру процесса измельчения и напыления.